几天后，他再次出现在“创客联盟”的地下室。
这一次，他手里多了一个厚厚的笔记本。
“欧阳，阿谦，先停一下。”明朗叫停了又在争论的兄弟俩，将笔记本摊开在堆满元件的工作台上：“我回去想了很久，关于我们那个屏幕，我有些新的想法。我们不能只盯着触摸屏本身，我们要做，就做整个显示模组！从TFT阵列开始！”
“什么？从阵列开始？”欧阳旭惊得眼镜都快掉了：“明哥，你知道那需要无尘车间、光刻机、镀膜机……那得花多少钱？我们这破地方怎么可能？”
“听我说完。”明朗沉稳地压压手，指着笔记本上画出的流程图：“是的，完整的TFT阵列工艺非常复杂，动辄几十上百道工序。但如果我们目标明确，只做小尺寸、低分辨率（240*320，也就是QVGA），我们可以把它压缩到十几道关键工序。这不是天方夜谭。”
他开始详细阐述他构思的简化版量产工艺：
1. 阵列（Array）工艺 - 简化版核心
“首先，基底。我们不用追求高标准的玻璃基板，就用国产的、厚度0.5左右的钠钙玻璃就行，成本低。先进行清洗和预处理。”
“然后，第一次薄膜沉积——栅极金属层。我们用磁控溅射的方式，镀上一层钼铝钼（Mo-Al-Mo）合金层。Mo和玻璃附着力好，Al导电性好且便宜，上面的Mo层可以防止Al扩散和氧化。这是我们未来栅极线和栅电极的基础。”
“接着，第一次光刻（Photo-1）。涂上光刻胶，用我们设计的栅极图案掩膜板进行曝光、显影。然后通过湿法刻蚀，把不需要的金属层蚀刻掉，形成我们设计好的栅极扫描线（Gate Line）和TFT的栅极（Gate Electrode）。清洗，脱掉剩余光刻胶。”
“下一步，沉积栅极绝缘层（GI层）和半导体有源层。用PECVD（等离子体增强化学气相沉积）设备，连续沉积氮化硅（SiNx）作为绝缘层，和非晶硅（a-Si）层作为TFT的沟道材料。这一步很关键，决定了TFT的开关特性。”
“第二次光刻（Photo-2）。定义出半导体孤岛（a-Si Ind），只保留未来TFT沟道区域的那部分a-Si，其他的用CF4/O2等离子体干法刻蚀掉。”
“第三次薄膜沉积——源漏金属层。同样用溅射法，镀上一层和栅极类似的金属层，比如Cr（铬）或者还是Mo-Al-Mo。”
“第三次光刻（Photo-3）。定义出源极（Source）、漏极（Drain）和数据线（Data Line）。通过刻蚀形成图案。注意，这里源漏极之间会有一个间隙，就是未来的沟道。”
“最后，沉积钝化层（Passivation Layer）。再用PECVD镀一层氮化硅，保护下面的电路。第四次光刻（Photo-4），开出接触孔（Contact Hole），露出漏极的一部分，以便后续连接像素电极。”
“沉积ITO层。用溅射法镀上氧化铟锡透明导电膜。第五次光刻（Photo-5），定义出像素电极（Pixel ITO）。这样，阵列基板就完成了。看，核心其实就5次光刻！比标准工艺简化了一大半！”
欧阳谦听得目瞪口呆，飞速地在自己的本子上记录着，时而皱眉思考，时而恍然大悟。
明朗说的这些工艺名词他大部分在理论上都学过，但从没想过可以如此大胆地简化整合！
尤其是5次光刻的概念，极大地降低了设备投入和工艺复杂度。
“阵列基板完成后，另一边是彩膜（CF）基板。”
明朗继续讲解。
“彩膜基板相对简单：在玻璃上先涂覆黑色矩阵（BM，ck Matrix）材料，光刻出黑框，用来遮光和防止串扰。然后依次用光刻法制作红（R）、绿（G）、蓝（B）三种颜色的树脂色阻（Color Resin）。最后再涂覆一层平整的覆盖层（OC），再溅射上一层公用的ITO电极。”
“接下来，在CF基板的边缘涂上封框胶（Sent），在阵列基板上用点胶机滴上液晶（LC）。然后在真空环境下对位贴合，让封框胶固化，形成一个一个的‘液晶盒’。”
“这个过程对精度要求极高，但设备相对专用，我们可以寻找二手的小尺寸线，或者与有类似能力的实验室合作。”
“成盒后的玻璃大板，需要切割成我们需要的2.4寸小片。”
“然后进行研磨倒角，防止边缘破裂。” “接下来是关键的贴附工艺：通过各向异性导电胶膜（ACF），将驱动IC芯片（Driver IC）绑定（Bonding）到阵列基板的压点（Pad）上。再将印刷电路板（PCB）同样用ACF绑定上去。”
“之后，安装背光单元（BLU）。背光包括反射片、导光板（LGP）、扩散片、增亮膜（BEF/DBEF）和LED光源。这部分技术相对成熟，可以外购标准件。”
“最后，组装铁框，进行老化测试（Aging Test）、电光学测试（EO Test），检查亮点、暗点、闪烁、串扰等。通过测试，就是一个完整的显示模组。”
“至于触摸屏，”明朗看向欧阳兄弟之前工作的夹具：“你们研究的电阻式触摸屏，作为另一个部件，最后通过框胶贴合在显示模组的最上面，组成一个带触摸功能的完整屏幕总成。”
明朗一口气说完，地下室一片寂静。只有老旧电脑风扇的嗡嗡声。
欧阳旭张大了嘴巴，半天才憋出一句：“我……靠！明哥，你……你从哪儿搞来的这套东西？这……这简直是把那些大厂的核心秘籍给扒了啊！”
欧阳谦则显得更加激动，他手指微微颤抖地抚摸着明朗笔记本上的流程图：“五次光刻……简化材料体系……聚焦小尺寸……理论上……理论上是完全可行的！这最大限度地降低了对设备精度和材料纯净度的要求！明哥，你这是个天才的简化方案！它可能做不出顶级屏幕，但绝对有可能做出‘足够好’、‘足够便宜’的屏幕！”
明朗看着两人激动的样子，知道火种已经点燃了。
他沉声道：“方案是骨架，但血肉需要你们来填充。这里面每一个参数的优化，每一道工艺的稳定性控制，都需要大量的实验。设备我们可以去买二手的、改造的；材料我们可以去找国产的替代品；人才……除了你们，我还会尽快招募有经验的工程师。钱的问题，我来解决。”
他目光扫过堆满杂物的地下室：“这里条件简陋，但我们可以把它当作研发和中试线。我们需要立刻行动起来了。阿旭，你负责牵头工艺实验，你的动手能力和急智用得上。阿谦，你负责理论计算、参数设计和测试数据分析。我们三个人，就是这支技术突击队的核心。”
“一个月！”明朗再次强调：“我们没有时间完美。我们要的是在无数次失败中，快速迭代，找到那个‘刚刚好’的平衡点。做出第一批能点亮、能显示、能触摸的样品！只要样品基本达标，我就有能力说服投资人，撬动更大的资金来建设真正的产线！”
欧阳兄弟对视一眼，都看到了对方眼中燃烧的火焰和前所未有的决心。
他们不再是在黑暗中盲目摸索的孤独研究者了，他们有了清晰的地图和强大的后援。
“干！”欧阳旭一拳砸在桌子上。
“明白！”欧阳谦重重地点点头，立刻转身开始在电脑上建模计算。
无形的壁垒依然存在，商业世界的喧嚣依旧浮躁。
但在这间大学角落的地下室里，一场旨在颠覆行业格局的技术突围战，已经悄然打响。
明朗带来的，不仅仅是资金和方向，更是一颗来自未来的、经过淬炼的技术种子。
它将在2005年这片略显贫瘠的土壤上，顽强地生根发芽。
成败，在此一举，但他们第一次感到，胜利的天平，似乎正在向他们这边微微倾斜。
这一次，他手里多了一个厚厚的笔记本。
“欧阳，阿谦，先停一下。”明朗叫停了又在争论的兄弟俩，将笔记本摊开在堆满元件的工作台上：“我回去想了很久，关于我们那个屏幕，我有些新的想法。我们不能只盯着触摸屏本身，我们要做，就做整个显示模组！从TFT阵列开始！”
“什么？从阵列开始？”欧阳旭惊得眼镜都快掉了：“明哥，你知道那需要无尘车间、光刻机、镀膜机……那得花多少钱？我们这破地方怎么可能？”
“听我说完。”明朗沉稳地压压手，指着笔记本上画出的流程图：“是的，完整的TFT阵列工艺非常复杂，动辄几十上百道工序。但如果我们目标明确，只做小尺寸、低分辨率（240*320，也就是QVGA），我们可以把它压缩到十几道关键工序。这不是天方夜谭。”
他开始详细阐述他构思的简化版量产工艺：
1. 阵列（Array）工艺 - 简化版核心
“首先，基底。我们不用追求高标准的玻璃基板，就用国产的、厚度0.5左右的钠钙玻璃就行，成本低。先进行清洗和预处理。”
“然后，第一次薄膜沉积——栅极金属层。我们用磁控溅射的方式，镀上一层钼铝钼（Mo-Al-Mo）合金层。Mo和玻璃附着力好，Al导电性好且便宜，上面的Mo层可以防止Al扩散和氧化。这是我们未来栅极线和栅电极的基础。”
“接着，第一次光刻（Photo-1）。涂上光刻胶，用我们设计的栅极图案掩膜板进行曝光、显影。然后通过湿法刻蚀，把不需要的金属层蚀刻掉，形成我们设计好的栅极扫描线（Gate Line）和TFT的栅极（Gate Electrode）。清洗，脱掉剩余光刻胶。”
“下一步，沉积栅极绝缘层（GI层）和半导体有源层。用PECVD（等离子体增强化学气相沉积）设备，连续沉积氮化硅（SiNx）作为绝缘层，和非晶硅（a-Si）层作为TFT的沟道材料。这一步很关键，决定了TFT的开关特性。”
“第二次光刻（Photo-2）。定义出半导体孤岛（a-Si Ind），只保留未来TFT沟道区域的那部分a-Si，其他的用CF4/O2等离子体干法刻蚀掉。”
“第三次薄膜沉积——源漏金属层。同样用溅射法，镀上一层和栅极类似的金属层，比如Cr（铬）或者还是Mo-Al-Mo。”
“第三次光刻（Photo-3）。定义出源极（Source）、漏极（Drain）和数据线（Data Line）。通过刻蚀形成图案。注意，这里源漏极之间会有一个间隙，就是未来的沟道。”
“最后，沉积钝化层（Passivation Layer）。再用PECVD镀一层氮化硅，保护下面的电路。第四次光刻（Photo-4），开出接触孔（Contact Hole），露出漏极的一部分，以便后续连接像素电极。”
“沉积ITO层。用溅射法镀上氧化铟锡透明导电膜。第五次光刻（Photo-5），定义出像素电极（Pixel ITO）。这样，阵列基板就完成了。看，核心其实就5次光刻！比标准工艺简化了一大半！”
欧阳谦听得目瞪口呆，飞速地在自己的本子上记录着，时而皱眉思考，时而恍然大悟。
明朗说的这些工艺名词他大部分在理论上都学过，但从没想过可以如此大胆地简化整合！
尤其是5次光刻的概念，极大地降低了设备投入和工艺复杂度。
“阵列基板完成后，另一边是彩膜（CF）基板。”
明朗继续讲解。
“彩膜基板相对简单：在玻璃上先涂覆黑色矩阵（BM，ck Matrix）材料，光刻出黑框，用来遮光和防止串扰。然后依次用光刻法制作红（R）、绿（G）、蓝（B）三种颜色的树脂色阻（Color Resin）。最后再涂覆一层平整的覆盖层（OC），再溅射上一层公用的ITO电极。”
“接下来，在CF基板的边缘涂上封框胶（Sent），在阵列基板上用点胶机滴上液晶（LC）。然后在真空环境下对位贴合，让封框胶固化，形成一个一个的‘液晶盒’。”
“这个过程对精度要求极高，但设备相对专用，我们可以寻找二手的小尺寸线，或者与有类似能力的实验室合作。”
“成盒后的玻璃大板，需要切割成我们需要的2.4寸小片。”
“然后进行研磨倒角，防止边缘破裂。” “接下来是关键的贴附工艺：通过各向异性导电胶膜（ACF），将驱动IC芯片（Driver IC）绑定（Bonding）到阵列基板的压点（Pad）上。再将印刷电路板（PCB）同样用ACF绑定上去。”
“之后，安装背光单元（BLU）。背光包括反射片、导光板（LGP）、扩散片、增亮膜（BEF/DBEF）和LED光源。这部分技术相对成熟，可以外购标准件。”
“最后，组装铁框，进行老化测试（Aging Test）、电光学测试（EO Test），检查亮点、暗点、闪烁、串扰等。通过测试，就是一个完整的显示模组。”
“至于触摸屏，”明朗看向欧阳兄弟之前工作的夹具：“你们研究的电阻式触摸屏，作为另一个部件，最后通过框胶贴合在显示模组的最上面，组成一个带触摸功能的完整屏幕总成。”
明朗一口气说完，地下室一片寂静。只有老旧电脑风扇的嗡嗡声。
欧阳旭张大了嘴巴，半天才憋出一句：“我……靠！明哥，你……你从哪儿搞来的这套东西？这……这简直是把那些大厂的核心秘籍给扒了啊！”
欧阳谦则显得更加激动，他手指微微颤抖地抚摸着明朗笔记本上的流程图：“五次光刻……简化材料体系……聚焦小尺寸……理论上……理论上是完全可行的！这最大限度地降低了对设备精度和材料纯净度的要求！明哥，你这是个天才的简化方案！它可能做不出顶级屏幕，但绝对有可能做出‘足够好’、‘足够便宜’的屏幕！”
明朗看着两人激动的样子，知道火种已经点燃了。
他沉声道：“方案是骨架，但血肉需要你们来填充。这里面每一个参数的优化，每一道工艺的稳定性控制，都需要大量的实验。设备我们可以去买二手的、改造的；材料我们可以去找国产的替代品；人才……除了你们，我还会尽快招募有经验的工程师。钱的问题，我来解决。”
他目光扫过堆满杂物的地下室：“这里条件简陋，但我们可以把它当作研发和中试线。我们需要立刻行动起来了。阿旭，你负责牵头工艺实验，你的动手能力和急智用得上。阿谦，你负责理论计算、参数设计和测试数据分析。我们三个人，就是这支技术突击队的核心。”
“一个月！”明朗再次强调：“我们没有时间完美。我们要的是在无数次失败中，快速迭代，找到那个‘刚刚好’的平衡点。做出第一批能点亮、能显示、能触摸的样品！只要样品基本达标，我就有能力说服投资人，撬动更大的资金来建设真正的产线！”
欧阳兄弟对视一眼，都看到了对方眼中燃烧的火焰和前所未有的决心。
他们不再是在黑暗中盲目摸索的孤独研究者了，他们有了清晰的地图和强大的后援。
“干！”欧阳旭一拳砸在桌子上。
“明白！”欧阳谦重重地点点头，立刻转身开始在电脑上建模计算。
无形的壁垒依然存在，商业世界的喧嚣依旧浮躁。
但在这间大学角落的地下室里，一场旨在颠覆行业格局的技术突围战，已经悄然打响。
明朗带来的，不仅仅是资金和方向，更是一颗来自未来的、经过淬炼的技术种子。
它将在2005年这片略显贫瘠的土壤上，顽强地生根发芽。
成败，在此一举，但他们第一次感到，胜利的天平，似乎正在向他们这边微微倾斜。